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KLSeisⅡ-Statics静校正
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产品功能:

   KLSeisⅡ静校正系列软件包含有表层调查、初至拾取、层析静校正、折射静校正、模型静校正等五个部分,包含有完整的静校正质量监控手段,能够为不同类型地区提供适合的静校正解决方案,解决各种复杂近地表区的静校正问题。

  • 表层调查:是对表层资料的整理和解释,包括小折射、微测井、长排列微测井等调查方法,是对KLSeis V6.0的一个全面升级。

  • 初至拾取:利用初至评价和二次拾取技术,可以较好地解决低信噪比资料的自动拾取问题,能高效准确得到初至时间。

  • 层析静校正:基于回折波的射线追踪理论,利用正演初至时间与实际初至时间的差异反演出连续的近地表模型,适应复杂和巨厚表层区。

  • 折射静校正:包括多种折射静校正方法,对于折射波比较稳定的地区,能够高效得到高频和低频分量,提供完整的静校正解决方案。

  • 模型静校正:利用表层调查数据建立适合静校正计算的合理模型。包括关系系数计算、静校正量计算、近地表模型建立等功能。

KLSeisⅡ-Statics静校正

性能指标:

   具有折射静校正、层析静校正和剩余静校正方法,可以解决沙漠、山地、戈壁和黄土塬等各种复杂地表的静校正问题。

技术特点:

   高精度层析反演静校正技术:单尺度网格分线性层析能够解决长波长和大幅度短波长静校正问题,比线性层析有更好的收敛性和更高的建模精度。多尺度网格层析能够弥补射线密度较低或不均匀的影响,较单尺度层析进一步提高了近地表建模精度。可形变不规则网格层析能够同时反演层速度和速度界面位置,对层状介质地区有更好地适应性。

   多域迭代初至波剩余静校正技术:能进一步提升高频静校正精度,大幅度提高剖面的成像精度,快速实现现场质量监控。

知识产权:

   获得国家授权发明专利5项,计算机软件著作权5项。

 


2018-09-22 来源: 责任编辑: